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  • CVD氣相沉積

    CVD（ChemicalVaporDeposition，化學氣相沉積）是一種用于薄膜沉積的技術。它通過將氣態(tài)化學前驅體反應成固態(tài)沉積物，在基材表面形成薄膜。CVD廣泛應用于半導體制造、光伏設備、涂層和材料科學等領域。

    更新日期：2024-08-29
    型號：
    廠商性質：代理商
  • GSL-1700X-HVC1700°C二通道混氣高真空CVD系統(tǒng)

    GSL-1700X-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統(tǒng)，它是由二路質子混氣系統(tǒng)和高真空機組組度可達1600℃，極限真空度可達 to 10^-5 torr?；鞖庀到y(tǒng)可以對兩種氣體進行精確的混氣，然后導

    更新日期：2024-08-19
    型號：GSL-1700X-HVC
    廠商性質：代理商
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