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  • TCVD--OTF-1200X-S2-5小型雙爐體滑動管式爐TCVD--OTF-1200X-S2-50SL

    OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的雙爐體滑動管式爐,爐管為Φ50×1400mm的石英管,并配有不銹鋼密封法蘭,儀器Z高溫度可以達(dá)到1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動,實(shí)現(xiàn)對原材料的蒸發(fā)/升華,及薄膜沉積。通過爐體的滑動可實(shí)現(xiàn)對樣品快速加熱,Z大升溫速率為100℃/min.同時可選擇電動滑軌、質(zhì)量流量計(MFC)控制的供氣系統(tǒng)和等離子射頻電源來搭建TCVD系統(tǒng)。

    更新日期:2024-08-17
    型號:TCVD--OTF-1200X-S2-5
    廠商性質(zhì):代理商
  • OTF-1200X-4-VTQ真空立式淬火爐--OTF-1200X-4-VTQ

    OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐,石英管直徑100mm,配有一個密封的液體容器用于樣品淬火,溫度從Z高1200度到冰水或油,可用于研究材料相轉(zhuǎn)變和微結(jié)構(gòu)性能。

    更新日期:2024-08-17
    型號:OTF-1200X-4-VTQ
    廠商性質(zhì):代理商
  • VTC-16-SM2單靶直流磁控濺射儀

    VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀,包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉(zhuǎn)樣品臺,外形小巧,性價比高,是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備,可選配各種金屬靶材和真空泵。

    更新日期:2024-08-17
    型號:VTC-16-SM
    廠商性質(zhì):代理商
  • GSL-1800X-PGEPGSL-1800X-PGEP超聲霧化及靜電沉降1800℃納米制備管式爐--GSL-1800X-PGE

    GSL-1800X-PGEP是一款多功能的合成系統(tǒng),針對于合成各種納米結(jié)構(gòu)氧化物。此款儀器有三個主要模塊組成:超聲霧化裝置、1800℃管式爐和靜電沉降裝置組成。材料制作大概分為三個步驟:前驅(qū)體霧化、加熱和納米顆粒收集。此款系統(tǒng)是一款非常先進(jìn)的合成系統(tǒng),可控制器顆粒尺寸,形態(tài),納米/微粒結(jié)構(gòu)。

    更新日期:2024-08-17
    型號:GSL-1800X-PGEP
    廠商性質(zhì):代理商
  • GSL-1700X-VTQGSL-1700X-VTQ1700℃立式淬火爐--GSL-1700X-VTQ

    GSL-1700X-VTQ是一款通過UL認(rèn)證的立式真空管式淬火爐,標(biāo)配有直徑60mm的莫來石管和一個用于樣品淬火的液體密封容器。該設(shè)備實(shí)驗(yàn)時可以使樣品從高溫環(huán)境下(Z高1700度)快速落入冰水或油中,非常適合用于研究材料相變和微結(jié)構(gòu)性能。

    更新日期:2024-08-17
    型號:GSL-1700X-VTQ
    廠商性質(zhì):代理商
  • OTF-1200X-SFOTF-1200X-SF含滑軌法蘭的管式爐--OTF-1200X-SF

    OTF-1200X-4-SF是一款爐管尺寸為100mm,帶有滑軌法蘭的管式爐,Z高工作溫度為1200℃,此款管式爐專為客戶自己搭建CVD系統(tǒng)而設(shè)計。

    更新日期:2024-08-17
    型號:OTF-1200X-SF
    廠商性質(zhì):代理商
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