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當(dāng)前位置：首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心  >  制膜設(shè)備  >  磁控濺射鍍膜  >  VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

雙靶磁控濺射儀
簡(jiǎn)要描述：

VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀配備有兩個(gè)靶槍，一個(gè)弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個(gè)強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，

  • 產(chǎn)品型號(hào)：VTC-600-2HD-1000
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 更新時(shí)間：2024-08-19
  • 訪  問  量：4268

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,交通
    雙靶磁控濺射儀主要特點(diǎn)：

    1、配置兩個(gè)靶槍，一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。

    2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。

    3、體積小，操作簡(jiǎn)便。

    技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱 VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號(hào) VTC-600-1HD
安裝條件 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水）
2、電：AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上）,需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥
4、工作臺(tái)：尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風(fēng)裝置：需要
主要參數(shù) 1、輸入電源：220V/50Hz
2、濺射靶數(shù)量：2
3、靶槍冷卻方式：水冷
4、極限真空度：7.4E-5pa
5、真空室規(guī)格：Φ300×330 mm
6、真空系統(tǒng)：VRD-16機(jī)械泵 FF-100/150渦輪分子泵
7、恢復(fù)真空：系統(tǒng)從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min（系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣）
8、充氣系統(tǒng)：2路質(zhì)量流量計(jì)（１路氬氣100scc、２路氬氣200scc）特殊氣體可定制
9、濺射靶規(guī)格：Φ2",厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）
10、樣品臺(tái)：Φ140mm/可旋轉(zhuǎn)（1～20rpm）/可加熱（室溫～1000℃）
產(chǎn)品規(guī)格 主機(jī)尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm

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