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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀--VTC-600-2HD
簡要描述：

VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監(jiān)測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導電，合金，半導體，陶瓷，介電，光學，氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便，是一套理想的實驗工具。

  • 產(chǎn)品型號：
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 更新時間：2024-08-17
  • 訪  問  量：3735

詳細介紹

技術參數(shù)

結(jié)構(gòu)

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 2000W  (包括泵)

濺射電源

  • 安裝有兩個濺射電源
  • 直流（DC）電源：500W，針對于制作金屬膜
  • 射頻（RF）電源：600W，可制作氧化物和金屬膜
  • 同時可選配300W的射頻電源

磁控濺射頭

  • 儀器中安裝有2個磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水對靶材降溫
  • 其中一個濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材
  • 另一個濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導電性靶材
  • 靶材尺寸要求：金屬靶：直徑為50mm,大厚度1.5mm
  •              陶瓷靶：直徑為50mm,大厚度6mm
  • 儀器中標配一個不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶
  • 濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環(huán)水冷機）

也可以根據(jù)自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭，訂購前需于本公司銷售人員

真空腔體

  • 真空腔體：300 mm Dia x 300 mm h，采用不銹鋼制作
  • 觀察窗口：  100 mm diameter
  • 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易

載樣臺

  • 載樣臺尺寸：140mm dia.（大可放置4"的基底）
  • 載樣臺可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)）
  • 載樣臺高可加熱溫度為500℃，控溫精度為+/- 1.0 °C

氣體流量控制器

  • 儀器內(nèi)部安裝有2個質(zhì)量流量計
  • 量程為：0-200sccm
  • 氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作

真空泵系統(tǒng)

配有一套分子泵系統(tǒng)（德國制作），采用一鍵式操作

薄膜測厚儀

  • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監(jiān)測薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å  
  • LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關數(shù)據(jù)

外形尺寸

L1300mm× W660mm× H1200mm

重量

160 kg

質(zhì)保期

一年質(zhì)保期，終生維護

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