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5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐
簡要描述：

OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速熱處理爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐針對于熱蒸發(fā)或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實驗，其鍍膜面積可達到5“x5“。

  • 產品型號：（CSS）OTF-1200X-RTP-II-5
  • 廠商性質：代理商
  • 更新時間：2025-03-11
  • 訪  問  量：2725

詳細介紹

品牌其他品牌產地類別國產
應用領域化工,電子/電池

5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐技術參數：

爐體結構和真空腔體

  • 采用兩個溫度控制器，分別控制頂部和底部兩組加熱元件。安裝有浮子流量計，可向真空腔體中通入氣體

  • 真空腔體為一高純的石英管，其尺寸為：11" OD/10.8" ID x 9" Hmm

真空法蘭

  • 真空法蘭為316不銹鋼制作

  • 頂部法蘭上有一KF25接口，可以與真空泵相連接，另外安裝有兩個1/4" 軟管接頭的出氣口

  • 底部法蘭上有一KF25接口，可以與真空泵相連接，另外安裝有兩個1/4" 軟管接頭的進氣口

  • 法蘭是通過兩個硅膠O型圈進行密封，體內真空度可達10-2 torr.

加熱元件和載樣臺

  • 由兩組紅外燈管作為加熱元件，分別位于頂部和底部

  • 兩個加熱臺之間的距離可以通過直流電機調節(jié)，調節(jié)范圍為：2-50mm

  • 為了減少熱量輻射和達到較快的冷卻速率，加熱元件安裝在帶有水冷夾層的不銹鋼殼體中，（不銹鋼殼體采用316不銹鋼制作）

  • 采用導熱率較高的氮化鋁陶瓷片（5"×5"×0.5mm厚度）作為載樣臺，以達到較好的加熱均勻性

  • 底部載樣臺上可放入5"x5"的石墨坩堝來盛放蒸發(fā)原料

  • 此款儀器使用時需要配用一循環(huán)水冷機（16L/m)

溫控系統(tǒng)

  • 兩個精密的溫控系統(tǒng)分別獨立控制上下兩個加熱區(qū)，可設置30段升降溫程序

  • 每個溫控系統(tǒng)都帶有超溫和斷偶保護

  • PC通訊接口，軟件可安裝，可將控溫程序和溫度曲線導入到電腦中

  • 控溫儀表操作視頻

工作溫度

  • 高工作溫度為：800℃

  • 兩個加熱區(qū)之間的大溫差為300℃

加熱和冷卻速率

  • 加熱速率> 8oC/s（每個溫區(qū)單獨加熱）

  • 冷卻速率> 10oC/s (600 - 100oC)

熱電偶

兩個K型熱電偶，安裝在頂部和底部，都與氮化鋁陶瓷片相接觸

工作電壓

208 - 240VAC, 單相,（需要20A的空氣開關）

功率

3000W

可選

  • 實驗時需要一個真空泵，可與本公司選購真空泵

  • 采用機械泵可使腔體內的真空度達到< = 10E-2 torr

  • 若要使真空腔體內達到更潔凈的工作環(huán)境，可換購無油泵

  • 也可選購質子流量計混氣系統(tǒng)，將實驗所需氣體安比列混好后導入到真空腔體中

質保

一年質保期，終生維護（不包括密封圈、加熱元件和石英管）


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