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鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。產(chǎn)品鍍制膜層需求量大了，需要考慮購(gòu)買(mǎi)鍍膜機(jī)，但國(guó)內(nèi)外鍍膜機(jī)制造商實(shí)在太多，鍍膜機(jī)對(duì)于整個(gè)產(chǎn)品的加工有重大的影響，如何選擇一個(gè)適合自己的品牌鍍膜機(jī)呢，鍍膜機(jī)選擇哪個(gè)種類好呢，下面說(shuō)下本人的一點(diǎn)拙見(jiàn)。1.首先是大小，要根據(jù)自己的產(chǎn)品來(lái)確定可能使用到的鍍膜機(jī)，鍍膜機(jī)的價(jià)格和大小是有關(guān)系的，越大的鍍膜機(jī)往往價(jià)格越貴。選...

箱式爐又名馬弗爐。適用于電力、煤炭、造紙、石化、水泥、農(nóng)牧、醫(yī)藥科研、教學(xué)等行業(yè)和部門(mén)。相對(duì)于管式爐來(lái)說(shuō)箱式爐的爐內(nèi)空間會(huì)大很多。也只有如此高溫的、腔體大的爐子才能將比較硬也比較大的材料融化。可是，在使用的過(guò)程中有些老師會(huì)遇到爐子溫度總是升不上去或不加熱的情況，例如箱式爐設(shè)定的是10℃/min，而爐子卻1分鐘只升溫了1℃，影響實(shí)驗(yàn)無(wú)法進(jìn)行。遇到這種情況，很多老師首先想到的是等技術(shù)人員過(guò)來(lái)維修，技術(shù)人員從外地趕過(guò)來(lái)少說(shuō)需要1天時(shí)間，這樣浪費(fèi)了老師的工作時(shí)間不說(shuō)，對(duì)經(jīng)濟(jì)也是一種損...

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。真空鍍膜機(jī)設(shè)備中的擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以上，抽速就會(huì)明顯變慢，或操作失當(dāng)，充入大氣，拆去聯(lián)結(jié)水管，卸下電爐盤(pán)，將一級(jí)噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水*清洗干凈，待水份揮發(fā)干以后，裝好泵膽，加入新擴(kuò)散泵油，并裝回機(jī)體，接好水管，裝好電爐盤(pán)，便可以重新開(kāi)機(jī)。在重新開(kāi)機(jī)前...

查看漏氣狀況是確保真空鍍膜機(jī)真空度的一項(xiàng)查看辦法，簡(jiǎn)稱檢漏，真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的，所以檢漏是*的。通常真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細(xì)縫中發(fā)生，當(dāng)抽氣體系抽氣后使真空室內(nèi)壓強(qiáng)降低，外部與內(nèi)部的壓強(qiáng)差使氣體從壓強(qiáng)高的外部流向壓強(qiáng)低的真空室內(nèi)，形成真空度降低。在檢漏的過(guò)程中，需求留意一些問(wèn)題，才能把檢漏作業(yè)做好。*，要承認(rèn)漏氣究竟的虛漏仍是實(shí)漏，因?yàn)楣ぜY料加熱后都會(huì)在不一樣程度上發(fā)生氣體，有可能誤以為是從外部流進(jìn)的氣體，這就是虛漏，...

真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測(cè)定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。真空管式爐維護(hù)注意點(diǎn)：1、管式電阻爐在*次使用或長(zhǎng)期停用后再次使用時(shí)，必須進(jìn)行一次烘爐干燥，使用時(shí)爐溫不得超過(guò)zui高溫度，以免燒毀電熱原件；2、管式電阻爐和控制器必須在相對(duì)濕度不超過(guò)85％，沒(méi)有導(dǎo)電塵埃、爆炸性氣體和能夠破壞金屬絕緣以及對(duì)電子原件有害的腐蝕性氣體的場(chǎng)所工作；3、定期檢查管式電阻爐、控制器各接線頭接觸是否良好，指示儀指針運(yùn)動(dòng)時(shí)有無(wú)卡滯...

等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法，所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi)，等離子鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)，可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過(guò)程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過(guò)程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍...

等離子鍍膜設(shè)備電沉積時(shí)總希望等離子鍍膜設(shè)備鍍層厚度在工件上的分布越均勻越好。當(dāng)工件上沉積的總金屬量相同時(shí)，若厚度分布不均勻，則會(huì)帶來(lái)很多壞處：(1)對(duì)于陽(yáng)極性鍍層，等離子鍍膜設(shè)備鍍層薄處經(jīng)不起犧牲腐蝕會(huì)先使基體產(chǎn)生銹蝕。而一個(gè)制件部分銹蝕后則已不合格，造成了鍍層過(guò)厚處金屬的浪費(fèi)。若為保證zui薄處不生銹，只能加大平均厚度，導(dǎo)致電鍍成本增大。(2)對(duì)于陰極性鍍層，等離子鍍膜設(shè)備薄處鍍層孔隙率高，很易產(chǎn)生點(diǎn)狀銹蝕，繼而銹點(diǎn)加大，形成連片銹蝕。與陽(yáng)極性鍍層相比，陰極性鍍層薄處銹蝕更...

一般來(lái)說(shuō)高真空蒸發(fā)鍍膜儀就是將靶材在真空的環(huán)境下加以高溫，使其以原子團(tuán)或者離子的形式被蒸發(fā)出來(lái)，然后在將基片防于真空倉(cāng)中讓這些原子團(tuán)或離子沉淀在基片之上，在沉淀的過(guò)程中我們還能通過(guò)我們的需要來(lái)改變靶材的沉淀情況。在線光密度檢測(cè)儀能真空鍍膜生產(chǎn)的過(guò)程中進(jìn)行鍍膜厚均勻性的監(jiān)測(cè)；選擇真空鍍膜就是想要在基片上均勻的鍍上膜，靶材厚度的均勻性就決定了鍍膜的品質(zhì)，鍍膜生產(chǎn)過(guò)程中我們可以使用透光率光密度檢測(cè)儀來(lái)進(jìn)行在線測(cè)試，通過(guò)光譜里的紅外線透過(guò)率、紫外線透過(guò)率以及可見(jiàn)光穿透率來(lái)進(jìn)行監(jiān)控感應(yīng)...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀在實(shí)驗(yàn)室制備金屬膜、有機(jī)膜等方面有著廣泛的應(yīng)用。要想保證高真空蒸發(fā)鍍膜儀的正常運(yùn)行，就必須保證高真空蒸發(fā)鍍膜儀沒(méi)有漏氣現(xiàn)象?，F(xiàn)在成越科儀就給大家介紹一下檢查高真空蒸發(fā)鍍膜儀是否漏氣的方法。查看漏氣狀況是確保高真空蒸發(fā)鍍膜儀真空度的一項(xiàng)查看辦法，簡(jiǎn)稱檢漏，真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的，所以檢漏是*的。通常高真空蒸發(fā)鍍膜儀真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細(xì)縫中發(fā)生，當(dāng)抽氣體系抽氣后使真空室內(nèi)壓強(qiáng)降低，外部與內(nèi)部的壓強(qiáng)差使氣體從壓強(qiáng)高的外部...

下面是幾種能夠造成熱噴涂鍍膜設(shè)備噴嘴失效的原因，希望對(duì)大家有所幫助。1、溫度：噴嘴在高溫或異常溫度的環(huán)境下長(zhǎng)時(shí)間的工作工作，會(huì)導(dǎo)致噴嘴材料軟化進(jìn)而損壞。2、阻塞：化學(xué)材料和雜質(zhì)在噴嘴內(nèi)的堆積很有可能造成噴嘴阻塞。極大地影響噴嘴的噴霧形狀，從而影響噴淋壓力。3、意外損害：不正確的使用方法和不能及時(shí)進(jìn)行保養(yǎng)是導(dǎo)致噴嘴意外損害的zui主要原因。盡管噴嘴口通常設(shè)計(jì)成凹式，但扇形噴嘴的偏移結(jié)構(gòu)卻很容易受到損害。4、侵蝕：高流速的液體經(jīng)過(guò)噴嘴孔時(shí)，會(huì)對(duì)噴嘴孔產(chǎn)生很強(qiáng)侵蝕，會(huì)造成噴嘴壓力降...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些對(duì)氧較敏感的金屬膜，如Ti,Al和Au等，也可蒸鍍各種氧化物材料。此款蒸鍍儀安裝有4個(gè)蒸鍍加熱頭.對(duì)于實(shí)驗(yàn)研究，這是一款鍍膜效果理想并且性價(jià)比較高的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。高真空蒸發(fā)鍍膜儀要在真空條件下工作，真空對(duì)環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對(duì)所處實(shí)驗(yàn)室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求，和對(duì)處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。這兩個(gè)方面是有密切的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，...

真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測(cè)定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。由于真空管式爐廣泛用于耐火材料、電子、陶瓷、冶金、機(jī)器、建材、特種材料、新材料開(kāi)發(fā)等領(lǐng)域的試驗(yàn)和生產(chǎn)中，避免不了產(chǎn)生爐管結(jié)碳渣或者結(jié)焦等情況，面對(duì)此問(wèn)題窯爐生產(chǎn)廠家通常的清洗方法有物理清洗法和化學(xué)清洗法2種。物理清洗采用機(jī)械力將管道內(nèi)積存的碳渣擊碎，再用高速氣流將碎渣吹出，使管道暢通?；瘜W(xué)清洗是通過(guò)化學(xué)反應(yīng)破壞碳渣的結(jié)構(gòu)或者與碳渣發(fā)生反應(yīng)，達(dá)到清渣的...