技術(shù)文章
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產(chǎn)品概述LVD-F1是一款適用于實(shí)驗(yàn)室中CVD或DLCVD實(shí)驗(yàn)的導(dǎo)入液體的一款經(jīng)濟(jì)高效的液體蒸發(fā)輸送系統(tǒng)。其液體流量是通過一個(gè)數(shù)字液體泵來控制,最大流量為10ml/min。液體被蠕動泵導(dǎo)入到混氣系統(tǒng)后,被系統(tǒng)里的加熱裝置加熱成蒸汽,然后隨導(dǎo)入的氣體被帶入到爐管中。LVD-F1能夠?qū)С龆喾N液體,比如ETOH,SnCl4,TiCl4r,SiHCl3,和Zn(C2H5)2,還有多種有機(jī)物混合。對于研究用...
等離子鍍膜設(shè)備是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)幫手。等離子鍍膜設(shè)備優(yōu)勢:1、AF噴涂設(shè)備采用原裝德國進(jìn)口納米噴頭,噴頭采用高低壓轉(zhuǎn)換霧化設(shè)計(jì),使液態(tài)分子極精細(xì),且不影響藥水效果;2、鋨存儲器可拆卸:具有密封式結(jié)構(gòu),可冷凍保存;3、理論設(shè)計(jì)產(chǎn)能3000片-4000片/小時(shí);4、噴嘴運(yùn)...
小型真空管式爐充工作氣體的方法:使用氫氣作為工作氣體時(shí)1、接通氫氣氣路,對各接頭處用肥皂水檢漏,確認(rèn)不漏氣。2、確認(rèn)各閥門處于關(guān)閉狀態(tài)。3.逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)旋鈕開氫氣瓶主閥,順時(shí)針旋動旋鈕,緩慢打開出口減壓閥,使出口氣壓在0.1MPa。4、接通機(jī)械泵電源,打開管式爐出口閥和機(jī)械泵氣路上的兩個(gè)閥門,抽5分鐘。5.關(guān)閉機(jī)械泵氣路上的兩個(gè)閥門,關(guān)閉管式爐出口閥門,關(guān)機(jī)械泵。6.逆順時(shí)針打開上氣路控制閥,使箭頭指向“開”位置。7.逆順時(shí)針調(diào)節(jié)流量計(jì)旋鈕,使示數(shù)在20ml/min。8、逆時(shí)針...
如何選擇切割機(jī)?1、切割機(jī)分類材料檢測前的初加工往往都需要用到切割機(jī),而我們公司的切割機(jī)種類很多,由于客戶對我司產(chǎn)品不熟悉,造成客戶在選擇設(shè)備時(shí)的思緒混亂,所以本文是以客戶角度,根據(jù)試樣材質(zhì)、尺寸、加工要求來選擇切割機(jī)。備注:1、紅色加粗字體標(biāo)注的方向?yàn)榍懈罘较颍ㄕ蚧蜇?fù)向);2、金剛石線切割機(jī)的切割線直徑分別為0.14、0.25、0.35、0.42mm;3、外圓切割機(jī)常用的切割片有燒結(jié)金剛石、電鍍金剛石、碳化硅、剛玉等。2、具體步驟a、可根據(jù)式樣尺寸對照上表選擇設(shè)備要保證式...
小型真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。采用先進(jìn)技術(shù)研制開發(fā)的高性能高節(jié)能的新型電爐,有單管、雙管、臥式、可開啟式、立式、單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等多種管式爐型。具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區(qū)多、可選配氣氛、抽真空爐型等。真空管式爐優(yōu)點(diǎn)之多,缺點(diǎn)也有,不過相對于其優(yōu)點(diǎn)繁多,缺點(diǎn)似乎沒那么重要了。小型真空管式爐優(yōu)點(diǎn):1.工藝成熟;2.爐型...
經(jīng)典實(shí)驗(yàn)-陶瓷/玻璃-關(guān)于球磨機(jī)中存在大顆粒無法去除的初步探究現(xiàn)象:1.在我們*網(wǎng)站及微信后臺留言及展會交流中,經(jīng)常會碰到反應(yīng)球磨中有大顆粒,球磨時(shí)間如何調(diào)整也無法去除的案例??凭?yīng)用技術(shù)實(shí)驗(yàn)室也多次碰到此類問題,先把探究的實(shí)驗(yàn)結(jié)果匯總?cè)缦?。主要原因:進(jìn)料尺寸過大。每個(gè)球磨機(jī)其實(shí)有一個(gè)重要參數(shù)就是進(jìn)料粒度,進(jìn)料粒度過大,材料較硬就會有大顆粒無法球磨下去。例如以下案例:以下球磨的樣品:剛玉采用的設(shè)備:科晶。。。。。。。球磨機(jī)進(jìn)料顆粒過大,延長球磨時(shí)間也無法去除粉體中的大顆粒。球...
開啟式管式爐是管試爐的一種,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。石英玻璃管橫穿于爐體中間作為的爐膛,爐管兩端用不銹鋼法蘭密封,工件式樣在管中加熱,加熱元件與爐管平行,均勻的分布在爐管外,有效的保證了溫場的均勻性。上蓋開啟式結(jié)構(gòu)方便客戶對特殊材料的裝載,燒制和觀察,并有助于快速升降溫。開啟式管式爐分單溫區(qū),雙溫區(qū),三溫區(qū),四溫區(qū),五溫區(qū)。開啟式管式爐的安裝細(xì)節(jié)1.本系列電爐不需特殊安裝,室內(nèi)平整的地面或工作臺上均可安放。但配套的控制器應(yīng)避免震動,放置位置與實(shí)驗(yàn)電爐不宜太近,防止過熱而影響控...
小型真空管式爐外型美觀大方,結(jié)構(gòu)為保溫層兩半開啟式,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。它是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬,非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的理想設(shè)備。小型真空管式爐的安裝步驟1、先將外壓環(huán)從石英管端裝入,再將硅橡膠O型圈套入,再將內(nèi)壓環(huán)套入,接著將第二個(gè)硅橡膠O型圈套入;撥動兩硅橡膠圈到合適位置,再將另外一個(gè)外壓環(huán)套上。(注意:此時(shí)應(yīng)調(diào)整兩硅橡膠O型圈及內(nèi)壓環(huán)的位置,使石英管端不要抵在外壓環(huán)端面,應(yīng)預(yù)留2mm間隙)。...
高真空蒸發(fā)鍍膜儀工藝鍍前預(yù)處理和鍍后處理——江西穗誠科技科技有限公司除了為您提供我們的真空鍍膜設(shè)備外,還提供全面的、范圍廣泛的服務(wù)包和技術(shù)服務(wù)。借助于這些成熟的技術(shù)服務(wù),您將能夠成功地使用您的高品質(zhì)涂層技術(shù)并從中獲益。為您提供準(zhǔn)確、出色的服務(wù)是我們公司理念中極為重要的組成部分。電鍍工藝過程一般包括電鍍前預(yù)處理、電鍍及鍍后處理。1、鍍前預(yù)處理:鍍前預(yù)處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面,為zui后獲得高質(zhì)量鍍層作準(zhǔn)備.要進(jìn)行脫脂、去銹蝕、去灰塵等工作。步驟如下:*步;使表面粗...
影響行星式球磨機(jī)球磨效果的影響1.摘要材料在超細(xì)狀態(tài)下表現(xiàn)出的*性能遍及電、磁、光、熱各個(gè)方面,超細(xì)粉末的應(yīng)用,不僅引起電子學(xué)領(lǐng)域,而且也引起了催化、粉末冶金、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的高度重視。但隨著物料粒度越來越細(xì),顆粒的宏觀和微觀裂縫大大降低。對于極細(xì)顆粒,高接觸壓力會造成非彈性變形,顆粒越細(xì)則強(qiáng)度越高,需反復(fù)受壓才能在殘余應(yīng)力場中積聚足夠的能量,達(dá)到最終破碎。行星式球磨機(jī)磨簡工作時(shí)既有公轉(zhuǎn)又有自轉(zhuǎn),磨球在自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)等合力的作用下,離心加速度可達(dá)120g甚至更高,可以為物料的裂紋形成...
大面積金剛石自支撐膜機(jī)械拋光的優(yōu)化工藝研究摘要:研究了一種用于拋光等離子體濺射CVD法制備的金剛石自支撐膜的高效安全的拋光工藝。試驗(yàn)探索了轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速、金剛石粉顆粒尺寸、磨盤表面形狀對金剛石自支撐膜磨拋速率的影響。研究表明:帶槽盤對金剛石自支撐膜的粗研磨效果明顯,速率較高,平面盤對提高金剛石自支撐膜的表面粗糙度有利;不同顆粒的金剛石粉對應(yīng)著各自合適的能充分利用其磨削能力的轉(zhuǎn)速,在這個(gè)轉(zhuǎn)速下,金剛石自支撐膜的磨拋速率在12μm/h左右。本文通過對新的工藝參數(shù)的探索,為金剛石自支撐膜...
晶體Si片切割表面損傷及其對電學(xué)性能的影響摘要:對比觀察了不同工藝條件下金剛石線鋸和砂漿線鋸切割晶體Si片的表面微觀形貌;分析了其切割機(jī)理及去除模式;對比分析了三種不同化學(xué)方法鈍化Si片的效果和穩(wěn)定性;采用逐層腐蝕去除Si片的損傷層,使用碘酒對其進(jìn)行化學(xué)鈍化,然后測試其少子壽命,分析Si片少子壽命隨去除深度的變化趨勢,根據(jù)Si片少子壽命達(dá)到最大值時(shí)的腐蝕深度,測試確定Si片的損傷層厚度。經(jīng)實(shí)驗(yàn)測得,砂漿線鋸切割Si片的損傷層厚度為10μm左右,金剛石線鋸切割Si片的損傷層厚度...
高真空蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用十分廣泛,如今在我們的生活中到處可見,是*的一項(xiàng)技術(shù)。由真空鍍膜室、蒸發(fā)源、真空機(jī)組、卡具、蒸發(fā)電源、控制系統(tǒng)與輔助裝置等組成。高真空蒸發(fā)鍍膜儀主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在高真空蒸發(fā)鍍膜儀的使用中,有3大要素是需要用戶特別留意:清潔真空鍍膜機(jī)每完成200個(gè)鍍膜程序以上,應(yīng)清潔工作室一次。方法是:用燒堿(NaOH)飽和溶液反...