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自然對(duì)流烘箱的功能：APT.LineTM技術(shù)為箱體帶來(lái)均勻的溫度分布和微小的溫度波動(dòng)。液晶顯示多功能控制器，操作簡(jiǎn)單，直觀。字母/數(shù)字顯示，更容易操作和讀取數(shù)據(jù)。通過(guò)USB端口導(dǎo)出數(shù)據(jù)，更加方便，或者通過(guò)以太網(wǎng)導(dǎo)出數(shù)據(jù)。經(jīng)濟(jì)型加熱系統(tǒng)和低散熱量使箱體能耗降低。自然對(duì)流烘箱的使用：1.應(yīng)安放在室內(nèi)干燥和水平處，防止振動(dòng)和腐蝕。2.要注意安全用電，根據(jù)烘箱耗電功率安裝足夠容量的電源閘刀。選用足夠的電源導(dǎo)線，并應(yīng)有良好的接地線3.帶有電接點(diǎn)水銀溫度計(jì)式溫控器的烘箱應(yīng)將電接點(diǎn)溫度計(jì)的...

混料球磨設(shè)備架上設(shè)有與轉(zhuǎn)軸相連并驅(qū)動(dòng)球磨圓筒的驅(qū)動(dòng)電機(jī)，機(jī)架上裝設(shè)有包裹與球磨圓筒外部的外倉(cāng)，外倉(cāng)底部呈倒錐形并設(shè)有出料口，可在限度降低噪音、減少粉塵，實(shí)現(xiàn)不跨料、定量出料和均勻出料。之所以有的會(huì)出現(xiàn)混料不均勻的現(xiàn)象，是因?yàn)檗D(zhuǎn)速與研磨細(xì)度不均勻等問(wèn)題造成的?？赡ノ锪隙噙_(dá)200余種，細(xì)度與粒度均勻易把控，轉(zhuǎn)速已優(yōu)化至比值，因此不易出現(xiàn)混料不均勻、混料時(shí)間耗費(fèi)過(guò)長(zhǎng)等問(wèn)題?；炝锨蚰ピO(shè)備的產(chǎn)品特點(diǎn)：1、流動(dòng)性好，強(qiáng)度高，不泌水、不分層。2、耐久性好，系無(wú)機(jī)灌漿材料，不存在老化，對(duì)鋼筋...

試論鋰離子電池極片的軋制與電池極片軋機(jī)一.鋰離子電池的歷史沿革人們往往把鋰離子電池稱為鋰電池，其實(shí)鋰離子電池從嚴(yán)格意義上講只是鋰電池的一種。而鋰電池是指電化學(xué)體系中含有鋰的電池，大致可分為兩類：鋰金屬電池和鋰離子電池。鋰金屬電池是由金屬鋰或鋁合金為負(fù)極材料，使用非水電解質(zhì)溶液的電池，其發(fā)明者為偉大的發(fā)明家愛(ài)迪生。1970年?？松腗.S.whittingham采用硫化鈦為正極材料，金屬鋰作為負(fù)極材料，制成鋰電池。由于鋰金屬的化學(xué)特征非?；顫?，使鋰金屬的加工、使用及保存，對(duì)環(huán)境...

CVD氣相沉積指把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過(guò)程。在超大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。經(jīng)過(guò)CVD處理后，表面處理膜密著性約提高30%，防止高強(qiáng)力鋼的彎曲，拉伸等成形時(shí)產(chǎn)生的刮痕。CVD氣相沉積的優(yōu)點(diǎn)：1、沉積成膜裝置簡(jiǎn)單；2、與直接蒸發(fā)法相比，可在大大低于其熔點(diǎn)或分解溫度的沉積溫度下制造耐熔金屬和各種碳化物、氮化物、硼化物、硅化物和氧化物薄膜；3、成膜所需的反應(yīng)源材料一般比較容易...

管式爐的溫區(qū)作用1、管式爐的溫區(qū)作用根據(jù)實(shí)驗(yàn)室要求選擇單溫區(qū)管式加熱爐和多溫區(qū)管式加熱爐，多溫區(qū)較單溫區(qū)會(huì)設(shè)有多高熱電偶，n溫區(qū)加熱爐的恒溫區(qū)比（n-1）溫區(qū)的加熱爐恒溫區(qū)要長(zhǎng)，部分儀器尺寸變大。2、恒溫區(qū)的作用恒溫區(qū)一般指加熱爐內(nèi)的某一段區(qū)間內(nèi)各點(diǎn)溫度基本一致，樣品放置在這一區(qū)間內(nèi)，樣品各處受到的溫度會(huì)基本一致。（中心區(qū)域溫差小于+/-1℃）3、恒溫區(qū)不同帶來(lái)的變化恒溫區(qū)的增加或減少可能會(huì)改變儀器的尺寸，儀器整體會(huì)變長(zhǎng)變大。4、恒溫區(qū)選擇選擇合適的恒溫區(qū)，一定要先根據(jù)實(shí)驗(yàn)樣...

化學(xué)氣相沉積是反應(yīng)物質(zhì)在氣態(tài)條件下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成固態(tài)物質(zhì)沉積在加熱的固態(tài)基體表面，進(jìn)而制得固體材料的工藝技術(shù)。它本質(zhì)上屬于原子范疇的氣態(tài)傳質(zhì)過(guò)程。常用的化學(xué)氣相沉積法有常壓化學(xué)氣相沉積法(Atmospheric-pressureCVD，APCVD)、低壓化學(xué)氣相沉積法(Low-pressureCVD，LPCVD)和等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法(Plasma-enhancedCVD，PECVD)，而這三種化學(xué)氣相沉積法的均有各自的優(yōu)、缺點(diǎn)及應(yīng)用的地方?；瘜W(xué)氣相沉積主要應(yīng)用于兩大...

真空感應(yīng)熔煉爐的工作原理：使用時(shí)，熔煉的材料在水冷銅坩堝內(nèi)進(jìn)行懸浮熔煉、凈化及加熱，同時(shí)可以進(jìn)行電磁攪拌細(xì)化晶粒及雜質(zhì)分離，凝固時(shí)停止熔煉，仍然進(jìn)行電磁攪拌以繼續(xù)均勻成分及組織。啟動(dòng)凝固拉桿并內(nèi)部通水冷卻，在密封艙內(nèi)按一定速度緩緩下降拉桿，達(dá)到普通凝固或者定向凝固的作用。*冷卻后得到一根棒坯。另外，本設(shè)備設(shè)計(jì)了機(jī)械攪拌裝置，可從事復(fù)合材料的制備。本設(shè)備具有純凈化、均勻化和連續(xù)化制備高活性銅鋁鈦及其合金的特點(diǎn)，適合用于科研和工業(yè)化生產(chǎn)。真空感應(yīng)熔煉爐的特點(diǎn)：1、感應(yīng)線圈借鑒國(guó)外...

馬弗爐又稱為高溫電爐，箱式電爐，其實(shí)是一種通用的加熱設(shè)備，可分為：箱式爐、管式爐、坩堝爐。具體作用：(1)馬弗爐可以熱加工、水泥、建材行業(yè),進(jìn)行小型工件的熱加工或處理；(2)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)節(jié)能型周期作業(yè)電爐，主要供合金鋼制品、各種金屬機(jī)件正火、淬火、退火等熱處理之用，或金剛石等切割刀片進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)用途(3)碳鋼、合金鋼、高錳鋼、高鉻鋼等工件淬火、正火、退火、調(diào)質(zhì)加熱用。(4)各種小型零件、彈簧、模具熱處理。高溫電爐通常溫度可達(dá)到1800度，經(jīng)過(guò)特殊處理的爐子可達(dá)到1800度，(5)...

實(shí)驗(yàn)材料：厚度0.5㎜的銅箔、透明無(wú)機(jī)溶膠，實(shí)驗(yàn)樣品如圖1所示銅箔無(wú)機(jī)溶膠圖1實(shí)驗(yàn)所用樣品圖材料特性：銅箔質(zhì)軟，容易褶皺；透明無(wú)機(jī)溶膠具有較大的粘性，不易甩開。實(shí)驗(yàn)?zāi)康模涸阢~箔表面涂覆一層厚度均勻的薄膜實(shí)驗(yàn)設(shè)備：VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)，實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備如圖2所示：VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)圖2實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備圖實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備特點(diǎn)：VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)具有操作簡(jiǎn)單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點(diǎn)，可利用高速旋轉(zhuǎn)的吸盤使粘滯系數(shù)較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面。該機(jī)使用...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見(jiàn)，是*的一項(xiàng)技術(shù)。由真空鍍膜室、蒸發(fā)源、真空機(jī)組、卡具、蒸發(fā)電源、控制系統(tǒng)與輔助裝置等組成。高真空蒸發(fā)鍍膜儀主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在高真空蒸發(fā)鍍膜儀的使用中，有3大要素是需要用戶特別留意：清潔真空鍍膜機(jī)每完成200個(gè)鍍膜程序以上，應(yīng)清潔工作室一次。方法是：用燒堿（NaOH）飽和溶液反...

小型蒸鍍儀標(biāo)準(zhǔn)操作步驟小型蒸鍍儀是一款小型真空鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些輕金屬，如Al.Mg,和Li等。同時(shí)也可對(duì)樣品進(jìn)行鍍碳處理，zui大可處理的樣品直徑為50mm。小型蒸鍍儀的使用可分為4步，即蒸鍍前準(zhǔn)備工作、蒸鍍儀的預(yù)熱、蒸鍍薄膜以及關(guān)機(jī).1、蒸鍍前準(zhǔn)備工作：1.1）開充氣閥，對(duì)鐘罩內(nèi)充氣，再升鐘罩；1.2）根據(jù)鐘罩內(nèi)是否清潔，先使用酒精清洗鐘罩內(nèi)的零部件；1.3）安裝鉬舟，并將鋁絲條放入鉬舟中，并將所要沉積的襯底粘附于鋁板上；1.4）降鐘罩，在鐘罩下降的同時(shí)要觀察是否存...

雙靶磁控濺射儀是一款新型的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。雙靶磁控濺射儀操作規(guī)范：雙靶磁控濺射儀開機(jī)1、打開冷水機(jī)。設(shè)定溫度：冬天10-15℃，夏天5℃2、打開放氣閥破真空，然后關(guān)閉放氣閥（之后整個(gè)工作過(guò)程務(wù)必保證放氣閥均是關(guān)閉狀態(tài)。本機(jī)閥門均是逆時(shí)針打開，順時(shí)針關(guān)閉）3、...